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東莞上朗塑膠電子有限公司是從事塑膠真空鍍膜加工和噴油的廠家，具備各類鍍膜鍍膜技術，能不斷開發新的電鍍產品：
業務涉及：電子配件產品、家電類配件產品、陶瓷產品、數碼配件產品、汽車內飾件、外飾件產品電鍍（中網、標牌、拉手、邊條）、游戲機配件、衛浴產品、化妝產品飾件、LED反光杯、鞋材飾扣配件、燈飾配件、工藝飾品、各類耳機產品、七彩電鍍類等等.
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真空鍍膜設備中頻磁控濺射知識簡介
真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
在近幾十年的發展中，大家逐漸采用永久磁鐵，很少用線圈磁鐵。
靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。
不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構，同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，多用磁場靜止靶源。
用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。
于是人們采用高頻電源，回路中加入很強的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個電容。
但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模采用。為解決此問題，發明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氬氣和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。
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