隨著現金電子產品，如集成電路，計算機硬盤，數字光盤，光通訊元件等性能的日益提高，許多部件表面要求達到超光滑。化學機械拋光（CMP）是目前廣泛應用的全局平面化技術。納米拋光材料（納米磨粒）主要用于CMP過程，是化學機械拋光技術中關鍵的要素，其性能直接影響拋光后材料的表面質量。近年來，隨著納米材料制備技術的發展，納米材料應用于化學機械拋光的研究迅速發展。
納米級的拋光材料與傳統的拋光材料相比，具有以下特性：
（1） 拋光后表面質量好，缺陷少。
（2） 亞納米級的超精拋光是在原子量級進行的，納米磨粒通過對被拋光工件表面原子的碰撞、摩擦、擴散、填充等，達到原子的去除，磨粒的粒度較小（納米級）利于獲得較低的表面粗糙度、較低的表面波紋度、較高的表面平整度以及較小的表面缺陷。傳統大粒子（如微米或者亞微米級）磨粒會引起過度的摩擦及碰撞，導致表面不平度較大和嚴重的表面損傷。
（3） 拋光液穩定性好
（4） 粒子越小，粒子的布朗運動越強烈，越能阻止粒子因重力而引起的下沉，分散體系的穩定性就約好。因而納米材料制成的拋光液沉降穩定性大大優于傳統的懸浮液。
納米拋光材料的種類與性能
納米拋光材料的種類和性能
常用的拋光材料主要有金剛石，氧化鋁，氧化硅，氧化鈰，氧化鈦，氮化硅，氧化鐵等。
納米氧化硅，納米氧化鋁是一種廣泛采用的納米拋光材料，具體詳詢蘇州優鋯納米材料有限公司得到專業的解答。
納米拋光材料的應用
化學機械拋光已成為眾多高新技術，如大規模集成電路、平面顯示及超高精度機械加工中不可缺少的工業化生產過程，而且這一技術與許多相關技術結合，將在未來高技術產業中發揮越來越大的作用。隨著對表面質量要求的日益提高，納米拋光材料面臨廣闊的發展機遇。目前，納米拋光材料主要應用于集成電路，計算機，光學玻璃等制造中，正進一步拓展應用到晶體，精密閥門、導電玻璃、機械磨具、陶瓷、金屬材料、微電極系統（MEMS）、寶石、平面顯示器以及廣島攝像機等表面高精加工中。
